와이씨켐, 자체개발 EUV 포토레지스트용 린스 반도체 라인 양산 테스트 진입…기업 상용화 국내최초 사례 코앞

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와이씨켐이 자체 개발한 극자외선(EUV) 노광 공정용 린스(Rinse) 제품의 글로벌 고객사 양산라인 평가가 시작됐다고 29일 밝혔다. 와이씨켐의 EUV 포토레지스트(PR)용 Rinse는 이달부터 글로벌 반도체 고객 기업의 양산 라인에서 테스트 과정을 진행 중이다. 양산테스트 평가가 통과되면 이르면 올해 하반기에 본격적인 양산 및 공급이 가능할 것으로 기대된다.

와이씨켐의 극자외선 포토레지스트용 Rinse는 반도체 EUV 노광 공정에서 감광액 도포 후에 사용되며, 극자외선(EUV) 공정에서 짧은 광원 파장으로 인해 생기는 반도체의 패턴결합이나 붕괴를 방지하면서 해상도와 거칠기, 감도 등을 개선하는 역할을 한다.

현재 국내 EUV PR용 린스 시장은 독일 기업이 독점하고 있다. 와이씨켐이 상용화에 성공하면 국산화 첫 사례가 된다. 시장조사업체 더테크(TECHCET)에 따르면, EUV PR용 린스 세계시장 규모는 2021년 5000만 달러 규모에서 반도체 나노 공정이 급속히 진행되면서 2025년에는 2억 달러 규모로 성장할 것으로 전망된다.

한편, 2001년 설립돼 2022년 코스닥 시장에 상장된 와이씨켐은 첨단 반도체 소재 개발 기업이다. 반도체 소재 개발에서 최초의 이력을 다수 가지고 있다.

2004년 ArF(불화아르곤) 및 KrF(불화크립톤) 포토레지스트용 Rinse 를 세계 처음으로 개발했으며, 2015년에는 특수목적용 ArF 이머전 공정용 Rinse 도 세계 최초로 선보였다. 와이씨켐은 현재 다양한 EUV 광원용 소재 개발을 진행 중이며, EUV Thinner, Developer 양산을 시작하였으며, EUV PR, EUV Underlayer 제품들도 개발하고 있다.

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