삼성전자, 1Q 시설투자 11조3000억…반도체가 86% 차지

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평택 투자 및 HBM/DDR5 등 첨단공정 생산 능력 확대

서울 서초동 삼성서초사옥 앞에서 삼성 깃발이 휘날리고 있다. ⓒ데일리안 DB 서울 서초동 삼성서초사옥 앞에서 삼성 깃발이 휘날리고 있다. ⓒ데일리안 DB

삼성전자가 1분기에 11조3000억원 규모의 시설 투자를 단행했다고 30일 밝혔다. 사업별로는 DS(반도체)가 9조7000억원, 디스플레이 1조1000억원 수준이다.

메모리의 경우 기술 리더십 강화를 위한 R&D(연구개발) 투자를 지속하고 특히 HBM(고대역폭메모리)/DDR5 등 첨단 제품 수요 대응을 위한 설비 및 후공정 투자에 집중했다.

파운드리(반도체 위탁생산)는 중장기 수요에 기반한 인프라 준비 및 첨단 R&D를 중심으로 투자를 지속했으며 설비 투자의 경우 시황을 고려해 탄력적으로 운영했다.

디스플레이는 IT OLED(유기발광다이오드) 및 플렉시블 제품 대응 중심으로 투자가 집행됐다.

삼성전자는 앞으로도 미래 경쟁력 확보를 위한 시설투자 및 R&D 투자를 꾸준히 이어갈 방침이다.

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